Corrección de la deformidad en trampilla secundaria a colgajos de trasposición en pirámide nasal

El efecto trampilla es frecuente en el postoperatorio a medio y largo plazo de algunos defectos cutáneos localizados en la región facial que se cierran con colgajos locales, sobre todo de trasposición.

Dentro de ellos, los colgajos lobulados de bordes redondeados utilizados en la pirámide nasal tienen esta complicación más que los colgajos geométricos tipo Limberg o Dufourmentel.

El tratamiento del efecto trampilla no es sencillo y la técnica que proponen Correa et al.1 es adecuada para resolverlo. Posiblemente la eficacia del tratamiento —reducción del escalón sin cicatriz anómala o hipertrófica— estribe en la profundidad del afeitado, y esta a su vez dependa del grado de abultamiento.

La piel nasal contiene abundantes glándulas sebáceas, de manera que afeitados superficiales que no profundicen más allá del epitelio glandular granulan y epitelizan más rápidamente, y sin riesgo de una cicatriz hipertrófica que aquellos que superan ese nivel y alcanzan al tejido celular subcutáneo sin anejos cutáneos.

Esta consideración la tenemos en cuenta al perfilar quirúrgicamente la nariz de un paciente con un rinofima mediante curetajes y electrocauterizaciones, donde por experiencia sabemos que una excesiva profundización puede ocasionar una cicatriz hipertrófica extrapolable a la que podría ocurrir en este procedimiento. Para prevenirlo muchas veces será necesario consensuar con el paciente la posibilidad de realizar un curetaje más superficial, con la opción de repetirlo si no fuera suficiente, antes que hacer uno inicial más profundo que tenga algún efecto secundario.

Lo mismo ocurre cuando cureteamos por motivos estéticos un nevo intradérmico: es preferible quedarse «corto» y que persista un pequeño abultamiento que puede corregirse en un segundo tiempo, que dejar de entrada una cicatriz deprimida mucho más difícil de arreglar posteriormente.

CITA DEL ARTÍCULO Actas Dermosifiliogr (Engl Ed). Jan-Feb 2019;110(1):2. doi: 10.1016/j.ad.2018.10.010. Epub 2018 Nov 28.